Akademska digitalna zbirka SLovenije - logo
VSE knjižnice (vzajemna bibliografsko-kataložna baza podatkov COBIB.SI)
  • Študij interakcije kisikovih ionov s površino NiO z molekularno dinamiko
    Vesel, Alenka ; Mozetič, Miran, 1961- ; Evangelakis, Giorgos
    Za določanje koncentracije nevtralnih atomov kisika v kisikovi plazmi se standardno uporabljajo nikljeve katalitične sonde, ki običajno delujejo pri temperaturah od 100 do 1000°C. Med izpostavo sonde ... kisikovi plazmi pride na sondi že pri okoli 700°C do sublimacije kovine s površine sonde. Kovina se nanese na notranjo površino plazemskega reaktorja in že tanek sloj bistveno spremeni lastnosti plazme. Glede na diagrame ravnovesnih parnih tlakov pri teh temperaturah ne bi smelo prihajati do izdatne sublimacije niklja. Za nikelj velja, da v kisikovi atmosferi tvori površinsko plast NiO, ki pa ima še nižji parni tlak od niklja. Z ravnovesno termodinamiko torej ne moremo tolmačiti sublimacije Ni ali NiO s površine sonde, saj imata oba materiala pri tej temperaturi zanemarljiv parni tlak. Zato smo pojav sublimacije poskušali razložiti z molekularno dinamiko. S to metodo smo simulirali dogajanje na površini nikljeve sonde pri izpostavi kisikovi plazmi. Rezultati računalniške simulacije so pokazali, da do sublimacije pride zaradi interakcije kisikovih ionov, nastalih v plazmi, s površino nikljevega oksida na sondi, pri čemer pride do nastanka metastabilnih molekul NiO[spodaj]2, ki že pri razmeroma nizki temperaturi sublimirajo s površine, nato pa na notranjih površinah plazemske komore razpadejo v nikljev(II) oksid in kisik.
    Vir: Zbornik sažetaka (Str. 33)
    Vrsta gradiva - prispevek na konferenci ; neleposlovje za odrasle
    Leto - 2002
    Jezik - slovenski
    COBISS.SI-ID - 64226

Vnos na polico