Narodna in univerzitetna knjižnica, Ljubljana (NUK)
-
Preparation of thin coatings of titanium compounds with ion implantation = Priprava tankih prevlek titanovih spojin z ionsko implantacijoMozetič, Miran, 1961- ...The growth of thin coatings of titanium oxide and nitride during ion implantation of respective ions into titanium substrate was studied theoretically and experimentally. The IBM SRIM software was ... used to determine the concentration profiles of implanted ions, the sputtering rate, probability of back - scattering and ion energy loss mechanisms. Theoretical results were compared with experiments. Samples of pure titanium plates were carefully polished and exposed to a flux of oxygen and nitrogen ions with the kinetic energy of 100 keV per molecule (50 keV per atom). The ion doses were 5x10[sup]16, 1x10[sup]17, 2.5x10[sup]17, 5x10[sup]17, 7.5x10[sup]17, 1x10[sup]18 atoms/cm[sup]2. Depth profiles of the samples were determined by the AES method. Both the theory and experiment showed that the ion range at the low dose was about 90 nm for the case of nitrogen, and 80 nm for the case of oxygen, with depth distribution typical for ion implantation. Experimental results showed that a layer of titanium compound with a constant composition was formed at the ion dose above 7.5x10[sup]17 atoms/cm[sup]2.Vir: Informacije MIDEM : časopis za mikroelektroniko, elektronske sestavne dele in materiale = časopis za mikroelektroniku, elektronske sastavne dijelove i materijale = journal of microelectronics, electronic components and materials. - ISSN 0352-9045 (Letn. 29, št. 3, sep. 1999, str. 117-120)Vrsta gradiva - članek, sestavni delLeto - 1999Jezik - angleškiCOBISS.SI-ID - 1726036
Avtor
Mozetič, Miran, 1961- |
Zalar, Anton |
Jagielski, Jacek |
Evangelakis, G.A. |
Drobnič, Matija |
Chab, V.
Teme
mikroelektronika |
tanke plasti |
titanov dioksid |
površine |
implantacija |
ioni
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|---|
Mozetič, Miran, 1961- | 10429 |
Zalar, Anton | 01741 |
Drobnič, Matija | 11973 |
Vir: Osebne bibliografije
in: SICRIS
Izberite prevzemno mesto:
Prevzem gradiva po pošti
Naslov za dostavo:
Med podatki člana manjka naslov.
Storitev za pridobivanje naslova trenutno ni dostopna, prosimo, poskusite še enkrat.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrano prevzemno mesto in dokončali postopek rezervacije.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrano prevzemno mesto in naslov za dostavo ter dokončali postopek rezervacije.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrani naslov za dostavo in dokončali postopek rezervacije.
Obvestilo
Trenutno je storitev za avtomatsko prijavo in rezervacijo nedostopna. Gradivo lahko rezervirate sami na portalu Biblos ali ponovno poskusite tukaj kasneje.
Gesla v Splošnem geslovniku COBISS
Izbira mesta prevzema
Gradivo iz matične enote je brezplačno. Če je gradivo na mesto prevzema dostavljeno iz drugih enot, lahko knjižnica to storitev zaračuna.
Mesto prevzema | Status gradiva | Rezervacija |
---|
Rezervacija v teku
Prosimo, počakajte trenutek.
Rezervacija je uspela.
Rezervacija ni uspela.
Rezervacija...
Članska izkaznica:
Mesto prevzema:
Naročanje gradiva za izposojo v čitalnice
Naročanje kopij člankov
Urnik dostave gradiva z oznako DS v signaturi