E-viri
Odprti dostop
-
久保, 征治; 高橋, 進; 早坂, 昭夫
テレビジョン学会誌, 1984, Letnik: 38, Številka: 2Journal Article
シリコンおよびIII-V化合物を中心として, 超高速半導体デバイスの動作原理, 最近の動向, 特徴および今後の見通しについて述べる.シリコン高速デバイスであるバイポーラLSIは, 従来のプレーナ技術の限界を越えた新デバイスを使用し, 化合物半導体は, 電子移動度やヘテロ接合などの本質的特長を生かして高性能化が進められている.
![loading ... loading ...](themes/default/img/ajax-loading.gif)
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|
Vir: Osebne bibliografije
in: SICRIS
To gradivo vam je dostopno v celotnem besedilu. Če kljub temu želite naročiti gradivo, kliknite gumb Nadaljuj.