E-viri
Recenzirano
-
Scandale, W.; Arduini, G.; Cerutti, F.; Garattini, M.; Gilardoni, S.; Lechner, A.; Losito, R.; Masi, A.; Mirarchi, D.; Montesano, S.; Redaelli, S.; Rossi, R.; Smirnov, G.; Breton, D.; Burmistrov, L.; Chaumat, V.; Dubos, S.; Maalmi, J.; Puill, V.; Stocchi, A.; Bagli, E.; Bandiera, L.; Romagnoni, M.; Guidi, V.; Mazzolari, A.; Murtas, F.; Addesa, F.; Cavoto, G.; Iacoangeli, F.; Galluccio, F.; Afonin, A.G.; Chesnokov, Yu.A.; Durum, A.A.; Maisheev, V.A.; Sandomirskiy, Yu.E.; Yanovich, A.A.; Kovalenko, A.D.; Taratin, A.M.; Denisov, A.S.; Gavrikov, Yu.A.; Ivanov, Yu.M.; Lapina, L.P.; Malyarenko, L.G.; Skorobogatov, V.V.; Auzinger, G.; Borg, J.; James, T.; Hall, G.; Pesaresi, M.
Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms, 01/2019, Letnik: 438Journal Article
Experimental results on deflection of a 180 GeV/c π+-meson beam by a 23 mm long bent silicon crystal are analyzed to study the dechanneling process of particles due to multiple scattering. A new approach for the determination of contributions from atomic nuclei and electrons to the multiple scattering using the experimental data for random crystal orientations is suggested. The results of simulations performed using this approach, in which the contribution from atomic electrons is considered according to the prescription of Bethe, are in a good agreement with the experiment.
Avtor
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|
Vir: Osebne bibliografije
in: SICRIS
To gradivo vam je dostopno v celotnem besedilu. Če kljub temu želite naročiti gradivo, kliknite gumb Nadaljuj.