E-viri
Recenzirano
-
Choy, J.-H.; Jang, E.-S.; Won, J.-H.; Chung, J.-H.; Jang, D.-J.; Kim, Y.-W.
Advanced materials (Weinheim), 11/2003, Letnik: 15, Številka: 22Journal Article
A high‐quality ZnO nanorod array (NRA) has been successfully grown on a Si wafer by a wet‐chemical process, where the Si wafer was dip‐coated with 4 nm sized ZnO nanoparticles as a buffer and seed layer prior to the crystal growth. It is found that the as‐prepared ZnO NRA has a threshold power density of ∼ 70 kW cm–2, which is comparable to the lowest one determined for ZnO NRAs on Al2O3 substrates (40 kW cm–2). The ultraviolet lasing efficiency of the ZnO NRAs is thus similar for both substrates.
![loading ... loading ...](themes/default/img/ajax-loading.gif)
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|
Vir: Osebne bibliografije
in: SICRIS
To gradivo vam je dostopno v celotnem besedilu. Če kljub temu želite naročiti gradivo, kliknite gumb Nadaljuj.