E-viri
Recenzirano
-
Djanovski, Georgi; Beshkova, Milena; Velinova, Sonia; Mollov, Dimitar; Vlaev, Petko; Kovacheva, Daniela; Vutova, Katia; Mladenov, Georgi
Plasma processes and polymers, February 17, 2006, Letnik: 3, Številka: 2Journal Article, Conference Proceeding
Thin films of cerium dioxide were deposited on silicon (100) substrates using e‐beam evaporation. The influence of different technological parameters, such as the substrate temperature, the oxygen pressure and the beam power on the crystallographic orientation of the films was explored. By optimizing these parameters, CeO2 thin films with a strongly preferred (200) orientation could be deposited on Si(100) substrates. XRD patterns of the CeO2 thin films deposited at various temperatures.
![loading ... loading ...](themes/default/img/ajax-loading.gif)
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|
Vir: Osebne bibliografije
in: SICRIS
To gradivo vam je dostopno v celotnem besedilu. Če kljub temu želite naročiti gradivo, kliknite gumb Nadaljuj.