Atomic layer deposition of yttrium iron garnet thin films

E-viri

Recenzirano

Atomic layer deposition of yttrium iron garnet thin films

Lammel, M.; Scheffler, D.; Pohl, D.; Swekis, P.; Reitzig, S.; Piontek, S.; Reichlova, H.; Schlitz, R.; Geishendorf, K.; Siegl, L.; Rellinghaus, B.; Eng, L. M.; Nielsch, K.; Goennenwein, S. T. B.; Thomas, A.

Physical review materials, 4/2022, Letnik: 6, Številka: 4

Journal Article

Išči dalje

Avtor

Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.

Leto	Faktor vpliva		Izdaja		Kategorija		Razvrstitev
Leto	JCR	SNIP	JCR	SNIP	JCR	SNIP	JCR	SNIP

Povezave do osebnih bibliografij avtorjev	Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS

Vir: Osebne bibliografije in: SICRIS

Naloži sliko

Vnos na polico

Dodajanje gradiva na polico je uspelo.

Dodajanje gradiva na polico je spodletelo.

Dodajanje gradiva na polico ni bilo potrebno.

Trajna povezava

E-pošta

Faktor vpliva

Izberite knjižnično izkaznico:

Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana

Citiranje

Tema