ALL libraries (COBIB.SI union bibliographic/catalogue database)
13.
Karakterizacija različnih oblik površinsko obdelanega ultrafinega rutila in njegova uporaba kot UV absorber
Lešnik, Maja, kemik, 1987- ...
Rutil je kristalna oblika Ti02, ki izkazuje relativno nizko fotokatalitsko aktivnost, čeprav absorbira dobršen del vpadne VV svetlobe. Nizka stopnja fotokatalitske aktivnosti ultrafinega rutila se ...doseže z nanosi različnih plasti anorganskih oksidov na njegovo površino. Zaradi tega se površinsko obdelani ultrafini delci rutila s pridom uporabljajo v obliki transparentnih premazov za les, za sončne kreme v kozmetiki in v tekstilni vlaknih za absorpcijo UV svetlobe. Najpogosteje uporabljeni oksidi za namen površinske obdelave so Si02, Al203, Zr02 in Fe203. Te okside smo aktivno preučili in jih pripravili v različnih kombinacijah, torej bodisi kot enkratne nanose bodisi kot binarne kompozitne nanose. Površinski nanosi so se naredili s precipitacijo oksidov na površino ultrafinih delcev rutila. Morfologija nanesene plasti in končne lastnosti površinsko obdelanega ultrafinega rutila so odvisne od več dejavnikov in sicer od temperature, vrednosti pH, hitrosti dodajanja komponent, tipa surovine in sosledja procesnih korakov. Zmožnost absorpcije UV svetlobe, ob hkratni transparentnosti za vidni del svetlobe, smo korelirali in izboljšali s kontrolo in optimizacijo reakcijskih parametrov. Za določanje razlik v efektivnosti UV absorpcije za različne oksidne nanose se je uporabila UV - Vis spektroskopija. Lastnosti oksidnih plasti pa so se tudi preučile z vrstično (SEM), presevno (TEM) in vrstično- presevno (STEM) elektronsko mikroskopijo. Prav tako se je analizirala kemijska sestava oksidnih plasti s tehniko energijske disperzijske spektroskopije rentgenskih žarkov (EDS), medtem ko se je razlika v elektrokemijskih lastnostih ultrafinega rutila pred in po površinski obdelavi določila s tehniko določanja površinskega naboja (peD).
It was not necessary to add the material to the shelf.
Bibliographic material was successfully added on shelf.
Adding bibliographical material on shelf was not successful.
Material is already on the shelf.
Permalink
URL:
Impact factor
Access to the JCR database is permitted only to users from Slovenia. Your current IP address is not on the list of IP addresses with access permission, and authentication with the relevant AAI accout is required.
Year
Impact factor
Edition
Category
Classification
JCR
SNIP
JCR
SNIP
JCR
SNIP
JCR
SNIP
Select the library membership card:
DRS,
in which the journal is indexed
Database name
Field
Year
Links to authors' personal bibliographies
Links to information on researchers in the SICRIS system
Subject headings in COBISS General List of Subject Headings
Select pickup location
The material from the parent unit is free. If the material is delivered to the pickup location from another unit, the library may charge you for this service.
