-
Vpliv dopantov na poogličenje anodnega materiala za visokotemperaturne gorivne celice : diplomsko deloKocman, PeterVrsta gradiva - diplomsko deloZaložništvo in izdelava - Ljubljana : [P. Kocman], 2006Jezik - slovenskiCOBISS.SI-ID - 27789317
Avtor
Kocman, Peter
Drugi avtorji
Maček, Jadran
Teme
anorganska kemijska tehnologija |
anodni materiali |
visokotemperaturne gorivne celice |
SOFC |
poogličenje |
kinetika poogličenja |
izločanje ogljika |
metan |
paladij |
platina |
baker |
srebro |
dopiranje katalitskih materialov |
testiranje anodnih materialov |
termična analiza |
EGA analiza |
rentgenska praškovna difrakcija |
elektronska mikroskopija |
specifična površina |
Ni/YSZ |
diplomska dela |
diplomska dela |
SOFC |
carbon deposition |
methane |
palladium |
platinum |
copper |
silver
![loading ... loading ...](themes/default/img/ajax-loading.gif)
Knjižnica/institucija |
Kraj | Akronim | Za izposojo | Druga zaloga |
---|---|---|---|---|
Knjižnica FKKT in FRI, Ljubljana | Ljubljana | FKKRI |
na dom 1 izv.
|
![loading ... loading ...](themes/default/img/ajax-loading.gif)
![loading ... loading ...](themes/default/img/ajax-loading.gif)
![loading ... loading ...](themes/default/img/ajax-loading.gif)
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|---|
Kocman, Peter | ![]() |
Maček, Jadran | 01348 |
Izberite prevzemno mesto:
Prevzem gradiva po pošti
Obvestilo
Gesla v Splošnem geslovniku COBISS
Izbira mesta prevzema
Mesto prevzema | Status gradiva | Rezervacija |
---|
Prosimo, počakajte trenutek.