Centralna tehniška knjižnica Univerze v Ljubljani (CTK)
-
Primerjava anorganskih UV absorberjev za zaščito lesa [Elektronski vir]Godnjavec, Jerneja, 1981 ; Venturini, Peter ; Znoj, BogdanUltravijolična zaščita organskih in bioloških materialov pred fotodegradacijo ima veliko praktično uporabo. Materiale lahko zaščitimo z uporabo UV absorberjev, ki so lahko organski ali anorganski ... materiali. Ti v najboljšem primeru absorbirajo vso UV svetlobo in so transprentni v vidnem območju svetlobe. UV absorberji se najpogosteje uporabljajo v kozmetiki za zaščito kože proti opeklinam in raku, ter za zaščito polimernih in tekstilnih materialov. Najučinkovitejši anorganski UV absorber je titanov dioksid v rutilni kristalinični obliki (TiO[spodaj]2), ki je veliko bolje poznan kot najpogosteje uporabljeno pigmentirno sredstvo anorganskega izvora. V svetovnem merilu titanov dioksid predstavlja 60 % deleža celotne proizvodnje pigmentov. Njegova uporaba je zelo razširjena tudi v premaznih sistemih zaradi specifičnih optičnih, zaščitnih in dekorativnih lastnosti. Običajna velikost delcev TiO[spodaj]2 v premazih je med 0,25 in 0,30 [mi]m. V zadnjem desetletju je bilo veliko raziskav usmerjenih v razvoj nanodelcev TiO[spodaj]2 (velikost od 20 do 80 nm), ki omogočajo doseganje posebnih funkcijskih lastnosti in transparentnosti premazov. Rezultati omenjenih raziskav so zelo zanimivi za lesno industrijo, še posebej izdelava transparentnih premazov z dodatkom nanodelcev TiO[spodaj]2 v rutilni kristalinični obliki, ki omogočajo bistveno izboljšano UV zaščito lesnih substratov. Za izdelavo transparentnega premaza za UV zaščito je potrebno nanodelce v disperziji premaza stabilizirati, da preprečimo aglomeracijo le teh. Tudi drugi anorganski UV absorberji se danes uporabljajo za zaščito lesa. Cinkov oksid (ZnO) se prav tako kot TiO[spodaj]2 uporablja kot pigment. Dobro je poznana predvsem njegova uporabav kozmetiki za UV zaščito, Cerijev oksid (CeO[spodaj]2) je trasprenten za vidno svetlobo in močno absorbira ultravijolično sevanje. Je možna zamenjava za ZnO in TiO[spodaj]2, ker ima manjšo fotokatalitsko aktivnost. Naš namen je testiranje učinkovitosti UV zaščite različnih vrst in koncentracij komercialno dostopnih nanodelcev TiO[spodaj]2, ZnO in CeO[spodaj]2 v premazih. Vzorce smo testirali v UV/Spray komori ter nato premazom izmerili sijaj, meglico ter barvno spremembo [delta]E*.Vir: Slovenski kemijski dnevi 2009, Maribor, 24. in 25. september 2009 [Elektronski vir] (Str. [1-9])Vrsta gradiva - prispevek na konferenciLeto - 2009Jezik - slovenskiCOBISS.SI-ID - 34275845
Avtor
Godnjavec, Jerneja, 1981 |
Venturini, Peter |
Znoj, Bogdan
Teme
nanodelci |
titanov oksid |
cinkov oksid |
cerijev oksid |
UV zaščita |
premazi |
nanoparticles |
titanium dioxide |
zinc oxide |
cerium dioxide |
UV protection |
coatings
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|---|
Godnjavec, Jerneja, 1981 | 26455 |
Venturini, Peter | 12363 |
Znoj, Bogdan | 16371 |
Vir: Osebne bibliografije
in: SICRIS
Izberite prevzemno mesto:
Prevzem gradiva po pošti
Naslov za dostavo:
Med podatki člana manjka naslov.
Storitev za pridobivanje naslova trenutno ni dostopna, prosimo, poskusite še enkrat.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrano prevzemno mesto in dokončali postopek rezervacije.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrano prevzemno mesto in naslov za dostavo ter dokončali postopek rezervacije.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrani naslov za dostavo in dokončali postopek rezervacije.
Obvestilo
Trenutno je storitev za avtomatsko prijavo in rezervacijo nedostopna. Gradivo lahko rezervirate sami na portalu Biblos ali ponovno poskusite tukaj kasneje.
Gesla v Splošnem geslovniku COBISS
Izbira mesta prevzema
Gradivo iz matične enote je brezplačno. Če je gradivo na mesto prevzema dostavljeno iz drugih enot, lahko knjižnica to storitev zaračuna.
Mesto prevzema | Status gradiva | Rezervacija |
---|
Rezervacija v teku
Prosimo, počakajte trenutek.
Rezervacija je uspela.
Rezervacija ni uspela.
Rezervacija...
Članska izkaznica:
Mesto prevzema: