Narodna in univerzitetna knjižnica, Ljubljana (NUK)
Naročanje gradiva za izposojo na dom
Naročanje gradiva za izposojo v čitalnice
Naročanje kopij člankov
Urnik dostave gradiva z oznako DS v signaturi
  • A study of thermally formed reaction products in a Ni/Cr/Si multilayer structure
    Zalar, Anton ...
    Priprava dobro karakteriziranih večplastnih struktur s kontrolo difuzijskih procesov in reakcij na faznih mejah je posebnega pomena za proizvodnjo vezij v mikroelektroniki. Silicidi so našli široko ... uporabo v mikroelektroniki zaradi primernih električnih karakteristik in ker skupaj z difuzijskimi barierami tvorijo termodinamično stabilne sisteme. V tem delu smo modelno večplastno strukturo Ni/Cr/Si, sestavljeno iz napršenih tankih plasti, debeline od 20 nm do 60 nm, ogrevali v diferencialno rastrskem kalorimetru (DSC). En vzorec večslojne strukture smo s hitrostjo 40°C/min ogrevali do 380°C in drugega do 550°C. Na svežih in termično izpostavljenih večplastnih strukturah smo s profilno analizo z metodo AES in presevno elektronsko mikroskopijo (TEM) ugotovili, da v termično obdelanih vzorcih močno reagirajo plasti niklja in silicija, medtem, ko je bila po pričakovanju reakcija med kromom in silicijem šibkejša. Identificirali smo dve vrsti silicidov, Ni[spodaj]2S in NiSi, kateri od njiju nastane pa je razen od časa reakcije in temperature odvisno tudi od razpoložljivega silicija in niklja.
    Vir: Informacije MIDEM : časopis za mikroelektroniko, elektronske sestavne dele in materiale = časopis za mikroelektroniku, elektronske sastavne dijelove i materijale = journal of microelectronics, electronic components and materials. - ISSN 0352-9045 (Letn. 23, št. 1, mar. 1993, str. 17-20)
    Vrsta gradiva - članek, sestavni del
    Leto - 1993
    Jezik - angleški
    COBISS.SI-ID - 17062149

    Povezava(-e):

    Digitalna knjižnica Slovenije - dLib.si

Vnos na polico