Narodna in univerzitetna knjižnica, Ljubljana (NUK)
Naročanje gradiva za izposojo na dom
Naročanje gradiva za izposojo v čitalnice
Naročanje kopij člankov
Urnik dostave gradiva z oznako DS v signaturi
  • XPS-analiza Ni3Al in TiAl3, ionsko nitriranega v pulzirajoči plazmi = An XPS analysis of Ni3Al and TiAl3 ion nitrided in a pulsed plasma
    Torkar, Matjaž ; Rosenband, Valery
    Visoka trdota in nizek koeficient trenja sta ključna parametra pri modernih nanosih in nanokompozitnih tankih plasteh za zmanjšanje obrabe. Kompleksni nitridi intermetalnih zlitin na osnovi titana, ... aluminija, niklja in železa so obetajoči materiali za visokozmogljive nanose. Preizkušeno je bilo ionsko nitriranje v pulzirajoči plazmi Ni3Al in TiAl3, ki sta bila izdelana po SHS (Self propagating high temperature synthesis)-metodi sinteze iz mešanice elementnih prahov v atmosferi argona. Vsebnost in vrsta nitridov je bila določena z XPS-metodo. Raziskava je potrdila vsebnost nitridov z vezavno energijo 397,2 eV ter nastanek nitridov AlN z vezavno energijo Al 2p 74,6 eV na Ni3Al, medtem ko nitridov TiN na zlitini TiAl3 nismo potrditi, verjetno zaradi prenizke temperature ionskega nitriranja.
    Vir: Materiali in tehnologije = Materials and technology. - ISSN 1580-2949 (Letn. 37, št. 6, nov.-dec. 2003, str. 365-368)
    Vrsta gradiva - članek, sestavni del
    Leto - 2003
    Jezik - slovenski
    COBISS.SI-ID - 327338

vir: Materiali in tehnologije = Materials and technology. - ISSN 1580-2949 (Letn. 37, št. 6, nov.-dec. 2003, str. 365-368)

loading ...
loading ...
loading ...