DIKUL - logo
(UL)
  • Optimization of silicon nitride plasma etching in $▫CHF[sub]3/O[sub]2▫$ chemistry
    Vrtačnik, Danilo ...
    Vir: Proceedings (Str. 241-246)
    Vrsta gradiva - prispevek na konferenci ; neleposlovje za odrasle
    Leto - 2003
    Jezik - angleški
    COBISS.SI-ID - 3864660

vir: Proceedings (Str. 241-246)

loading ...
loading ...
loading ...