Thickness-dependent electron–lattice equilibration in laser-excited thin bismuth films

E-viri

Recenzirano

Thickness-dependent electron–lattice equilibration in laser-excited thin bismuth films

Sokolowski-Tinten, K.; Li, R. K.; Reid, A. H.; Weathersby, S. P.; Quirin, F.; Chase, T.; Coffee, R.; Corbett, J.; Fry, A.; Hartmann, N.; Hast, C.; Hettel, R.; Hoegen, M. Horn von; Janoschka, D.; Lewandowski, J. R.; Ligges, M.; Heringdorf, F. Meyer zu; Shen, X.; Vecchione, T.; Witt, C.; Wu, J.; Dürr, H. A.; Wang, X. J.

New journal of physics, 11/2015, Letnik: 17, Številka: 11

Journal Article

Išči dalje

Avtor

Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.

Leto	Faktor vpliva		Izdaja		Kategorija		Razvrstitev
Leto	JCR	SNIP	JCR	SNIP	JCR	SNIP	JCR	SNIP

Povezave do osebnih bibliografij avtorjev	Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS

Vir: Osebne bibliografije in: SICRIS

Naloži sliko

Vnos na polico

Dodajanje gradiva na polico je uspelo.

Dodajanje gradiva na polico je spodletelo.

Dodajanje gradiva na polico ni bilo potrebno.

Trajna povezava

E-pošta

Faktor vpliva

Izberite knjižnično izkaznico:

Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana

Citiranje

Tema