UNI-MB - logo
UMNIK - logo
 
Centralna tehniška knjižnica Univerze v Ljubljani (CTK)
  • Površinska difuzija atomarnega vodika
    Kveder, Miha ...
    V zadnjih letih se v svetu vse bolj uveljavlja metoda obdelave kovinskih površin z vodikovo plazmo. Z atomarnim vodikom namreč uspešno odstranjujemo s površin kovin razne nečistoče, predvsem kovinske ... okside. Vendar po takšni obdelavi ostane na površini plast adsorbiranega vodika, ki se lahko difuzijsko prenese na prej čiste dele površin. Prav zato smo se odločili za študij hitrosti površinske difuzije adsorbiranih atomov vodika. Za izračun smo uporabili naslednji model: kovinska površina je neskončna in razdeljena na dve polravnini, od katerih je ena na začetku povsem čista, na drugi pa je nekaznana začetna koncentracija adsorbiranih atomov. Izračun je pokazal, da je hitrost površinske difuzije najbolj odvisna od temperature površine. Rezultati za difuzijo adsorbiranega atomarnega vodika na bakreni površini kažejo, da je difuzija pri temperaturi 600 K približno tisočkrat hitrejša od tiste pri temperaturi 300 K.
    Vir: Vakuumist : glasilo Društva za vakuumsko tehniko Slovenije. - ISSN 0351-9716 (Let. 13, št. 2, junij 1993, str. 23-25)
    Vrsta gradiva - članek, sestavni del
    Leto - 1993
    Jezik - slovenski
    COBISS.SI-ID - 994

Vnos na polico