-
Reaktivno ionsko jedkanje (RIE) silicija na osnovi $SF_6$/$O_2$-kemijeVrtačnik, Danilo ...Vir: Vakuumist : glasilo Društva za vakuumsko tehniko Slovenije. - ISSN 0351-9716 (Letn. 32, št. 2, jul. 2012, str. 4-7)Vrsta gradiva - članek, sestavni delLeto - 2012Jezik - slovenskiCOBISS.SI-ID - 9312596
Avtor
Vrtačnik, Danilo |
Resnik, Drago |
Možek, Matej |
Pečar, Borut, 1982- |
Dolžan, Tine |
Amon, Slavko
Teme
MEMS |
RIE |
hitrost jedkanja |
profil jedkanja |
selektivno jedkanje |
selektivno jedkanje |
MEMS |
RIE |
etch rate |
profile |
selectivity of etching
vir: Vakuumist : glasilo Društva za vakuumsko tehniko Slovenije. - ISSN 0351-9716 (Letn. 32, št. 2, jul. 2012, str. 4-7)
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|---|
Vrtačnik, Danilo | 04383 |
Resnik, Drago | 05075 |
Možek, Matej | 20186 |
Pečar, Borut, 1982- | 30683 |
Dolžan, Tine | 34539 |
Amon, Slavko | 01926 |
Izberite prevzemno mesto:
Prevzem gradiva po pošti
Obvestilo
Gesla v Splošnem geslovniku COBISS
Izbira mesta prevzema
Mesto prevzema | Status gradiva | Rezervacija |
---|
Prosimo, počakajte trenutek.
Naročanje gradiva za izposojo v čitalnice
Naročanje kopij člankov
Urnik dostave gradiva z oznako DS v signaturi