High Mobility MoS2 Transistor with Low Schottky Barrier Contact by Using Atomic Thick h-BN as a Tunneling Layer

E-viri

Recenzirano

High Mobility MoS2 Transistor with Low Schottky Barrier Contact by Using Atomic Thick h-BN as a Tunneling Layer

Wang, Jingli; Yao, Qian; Huang, Chun-Wei; Zou, Xuming; Liao, Lei; Chen, Shanshan; Fan, Zhiyong; Zhang, Kai; Wu, Wei; Xiao, Xiangheng; Jiang, Changzhong; Wu, Wen-Wei

Advanced materials (Weinheim), October 5, 2016, Letnik: 28, Številka: 37

Journal Article

High‐performance MoS2 transistors are developed using atomic hexagonal boron nitride as a tunneling layer to reduce the Schottky barrier and achieve low contact resistance between metal and MoS2. Benefiting from the ultrathin tunneling layer within 0.6 nm, the Schottky barrier is significantly reduced from 158 to 31 meV with small tunneling resistance.

Išči dalje

Avtor

Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.

Leto	Faktor vpliva		Izdaja		Kategorija		Razvrstitev
Leto	JCR	SNIP	JCR	SNIP	JCR	SNIP	JCR	SNIP

Povezave do osebnih bibliografij avtorjev	Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS

Vir: Osebne bibliografije in: SICRIS

Naloži sliko

Vnos na polico

Dodajanje gradiva na polico je uspelo.

Dodajanje gradiva na polico je spodletelo.

Dodajanje gradiva na polico ni bilo potrebno.

Trajna povezava

E-pošta

Faktor vpliva

Izberite knjižnično izkaznico:

Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana

Citiranje

Tema