E-viri
Recenzirano
Odprti dostop
-
Yang, J. Joshua; Strachan, John Paul; Xia, Qiangfei; Ohlberg, Douglas A. A.; Kuekes, Philip J.; Kelley, Ronald D.; Stickle, William F.; Stewart, Duncan R.; Medeiros-Ribeiro, Gilberto; Williams, R. Stanley
Advanced materials (Weinheim), September 22, 2010, Letnik: 22, Številka: 36Journal Article
Thermal diffusion of Ti through Pt electrode forms Ti atom channels of 1 nm diameter along Pt grain boundaries, seeding switching centers and controlling nanoscale memristive switching. The image shows EFTEM maps of Ti overlaid on HRTEM images for a Si/SiO2 100 nm/Ti 5nm/Pt 15 nm sample in‐situ annealed in ultrahigh vacuum at 250 °C for 1 hour.
![loading ... loading ...](themes/default/img/ajax-loading.gif)
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|
Vir: Osebne bibliografije
in: SICRIS
To gradivo vam je dostopno v celotnem besedilu. Če kljub temu želite naročiti gradivo, kliknite gumb Nadaljuj.