Fakulteta za strojništvo, Ljubljana (FSLJ)
-
On the thermal stability of multilayer optics for use with high X-ray intensities [Elektronski vir]Zakharova, Margarita ...High-intensity X-ray free electron laser (XFEL) beams require optics made of materials with minimal radiation absorption, high diffraction efficiency, and high radiation hardness. Multilayer Laue ... lenses (MLLs) are diffraction-based X-ray optics that can focus XFEL beams, as already demonstrated with tungsten carbide/silicon carbide (WC/SiC)-based MLLs. However, high atomic number materials such as tungsten strongly absorb X-rays, resulting in high heat loads. Numerical simulations predict much lower heat loads in MLLs consisting of low atomic number Z materials, although such MLLs have narrower rocking curve widths. In this paper, we first screen various multilayer candidates and then focus on Mo2C/SiC multilayer due to its high diffraction efficiency. According to numerical simulations, the maximum temperature in this multilayer should remain below 300°C if the MLL made out of this multilayer is exposed to an XFEL beam of 17.5 keV photon energy, 1 mJ energy per pulse and 10 kHz pulse repetition rate. To understand the thermal stability of the Mo2C/SiC multilayer, we performed a study on the multilayers of three different periods (1.5, 5, and 12 nm) and different Mo2C to SiC ratios. We monitored their periods, crystallinity, and stress as a function of annealing temperature for two different heating rates. The results presented in this paper indicate that Mo2C/SiC-based MLLs are viable for focusing XFEL beams without being damaged under these conditions.Vir: Optical materials express [Elektronski vir]. - ISSN 2159-3930 (Vol. 14, iss. 8, 2024, str. 1933-1948)Vrsta gradiva - e-članek ; neleposlovje za odrasleLeto - 2024Jezik - angleškiCOBISS.SI-ID - 200647939
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP |
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
Ime baze podatkov | Področje | Leto |
---|
Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
---|---|
Zakharova, Margarita | |
Rek, Zlatko | 01371 |
Šarler, Božidar | 04101 |
Bajt, Saša |
Vir: Osebne bibliografije
in: SICRIS
Izberite prevzemno mesto:
Prevzem gradiva po pošti
Naslov za dostavo:
Med podatki člana manjka naslov.
Storitev za pridobivanje naslova trenutno ni dostopna, prosimo, poskusite še enkrat.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrano prevzemno mesto in dokončali postopek rezervacije.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrano prevzemno mesto in naslov za dostavo ter dokončali postopek rezervacije.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrani naslov za dostavo in dokončali postopek rezervacije.
Obvestilo
Trenutno je storitev za avtomatsko prijavo in rezervacijo nedostopna. Gradivo lahko rezervirate sami na portalu Biblos ali ponovno poskusite tukaj kasneje.
Gesla v Splošnem geslovniku COBISS
Izbira mesta prevzema
Gradivo iz matične enote je brezplačno. Če je gradivo na mesto prevzema dostavljeno iz drugih enot, lahko knjižnica to storitev zaračuna.
Mesto prevzema | Status gradiva | Rezervacija |
---|
Rezervacija v teku
Prosimo, počakajte trenutek.
Rezervacija je uspela.
Rezervacija ni uspela.
Rezervacija...
Članska izkaznica:
Mesto prevzema: